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為什么授權(quán)越來越難了?

發(fā)布時間:2025-05-09 來源:精金石知識產(chǎn)權(quán) 閱讀量:4

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近期,不僅發(fā)明人不理解,就連代理人也越來越搞不懂,為什么覺得有創(chuàng)造性的專利,被下發(fā)的審查意見通知書中認定為是常規(guī)技術(shù)手段或存在現(xiàn)有技術(shù)的結(jié)合啟示呢?筆者覺得,原因之一可能有:本領(lǐng)域技術(shù)人員陷入了事后諸葛亮式的判斷誤區(qū)。
根據(jù)審查指南的相關(guān)記載:審查發(fā)明的創(chuàng)造性時,由于本領(lǐng)域技術(shù)人員是在了解了發(fā)明內(nèi)容之后才作出判斷,因而容易對發(fā)明的創(chuàng)造性估計偏低,從而犯“事后諸葛亮”的錯誤。本領(lǐng)域技術(shù)人員應當牢牢記住,對發(fā)明的創(chuàng)造性評價是由發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員依據(jù)申請日以前的現(xiàn)有技術(shù)與發(fā)明進行比較而作出的,以減少和避免主觀因素的影響。
下面具體案例了解什么是專利審查中的“事后諸葛亮式的判斷”。
案例情況



申請?zhí)枺?02010162293.9
發(fā)明名稱:一種拋光裝置
授權(quán)文本中的權(quán)利要求1為:

1. 一種拋光裝置,其特征在于,包括:

支架(1),所述支架(1)內(nèi)部設置有容納腔;

吸附裝置(2),設置在所述容納腔內(nèi),適于吸附待拋光產(chǎn)品;

若干組彼此并排設置的滾刷結(jié)構(gòu)(3),設于所述吸附裝置(2)的上方,并可轉(zhuǎn)動地連接在所述支架(1)上,適于對所述吸附裝置(2)上的所述待拋光產(chǎn)品進行拋光;

第一驅(qū)動裝置(4),固定連接在所述支架(1)上,并與所述滾刷結(jié)構(gòu)(3)連接,適于驅(qū)動所述滾刷結(jié)構(gòu)(3)相對所述支架(1)轉(zhuǎn)動;

所述滾刷結(jié)構(gòu)(3)包括:

滾刷桿(5),與所述第一驅(qū)動裝置(4)固定連接;

滾刷(6),套設于所述滾刷桿(5)的外側(cè),所述滾刷(6)的外表面適于與所述待拋光產(chǎn)品接觸;

所述滾刷桿(5)的內(nèi)部設有中空通道,所述滾刷桿(5)與所述滾刷(6)對應的外表面上設有與所述中空通道連通的噴液孔(7);

所述滾刷桿(5)的一端與所述第一驅(qū)動裝置(4)固定連接,另一端通過所述中空通道適于與液體源連接,使得使用時,液體源能夠向滾刷桿(5)持續(xù)地供給液體,使得滾刷(6)能夠保持自然膨化狀態(tài)。

無效請求人主張證據(jù)



針對以上權(quán)1記載,無效請求人提供多個證據(jù)主張該權(quán)1不具備創(chuàng)造性,如下所示:
證據(jù) 1:公開號為 US2003/0143930A1(一種用于半導體工件正面化學機械拋光(CMP)的設備和方法),公開日為 2003 年 07 月 31 日的美國專利文件及其相關(guān)部分中文譯文;
證據(jù) 2:公開號為 US6467120B1,公開日為 2002 年 10 月 22 日的美國專利文件及其相關(guān)部分中文譯文;
證據(jù) 3:公開號為 US2010/0078041A1(一種帶力控制的刷盒清潔器模塊)公開日為 2010 年 04 月 01 日的美國專利文件及其相關(guān)部分中文譯文。
基于以上證據(jù),請求人主張:權(quán)1相對于證據(jù)1與證據(jù)2、證據(jù)3的結(jié)合不具備創(chuàng)造性。
【專利權(quán)人應對修改



針對請求人提供的多個證據(jù)以及主張,最終,專利權(quán)人在原權(quán)1的基礎上,合并了以下方案作為新的權(quán)1:
所述支架(1)包括:支架本體(9);至少一個安裝架(10),設于所述滾刷結(jié)構(gòu)(3)的至少一端,所述安裝架(10)與所述支架本體(9)圍成所述容納腔;所述安裝架(10)的一端與所述滾刷結(jié)構(gòu)(3)連接,另一端可轉(zhuǎn)動地連接在所述支架本體(9)上,并帶動所述滾刷結(jié)構(gòu)(3)在高度方向發(fā)生靠近或遠離所述待拋光產(chǎn)品的運動?!?/span>并陳述具有創(chuàng)造性的理由。
無效請求人主張理由



針對修改后的權(quán)1,請求人仍認為不具備創(chuàng)造性,主張理由(結(jié)合下圖對比):
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↑涉案專利的結(jié)構(gòu)示意圖
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↑證據(jù)1的結(jié)構(gòu)示意圖
對比分析后,請求人認為:證據(jù)1中的滾筒組件、真空卡盤、主軸、滾筒相當于對應公開了涉案專利的滾刷組件、吸附裝置、滾刷桿以及滾刷。因此,主張以上涉案專利與證據(jù)1的區(qū)別至少在于:
支架,支架內(nèi)部設置有容納腔,吸附裝置設置在容納腔內(nèi),支架包括:支架本體和至少一個安裝架,安裝架設于滾刷結(jié)構(gòu)的至少一端,安裝架與支架本體圍成容納腔,安裝架的一端與滾刷結(jié)構(gòu)連接,另一端可轉(zhuǎn)動地連接在支架本體上,并帶動滾刷結(jié)構(gòu)在高度方向發(fā)生靠近或遠離所述待拋光產(chǎn)品的運動。
而請求人主張以上區(qū)別被證據(jù)3公開,主張理由為:
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↑證據(jù)3的結(jié)構(gòu)示意圖
對比分析后,請求人認為:
①證據(jù)3中的“處理空間設于支撐架上”相當于公開了涉案專利的“支架內(nèi)部設置有容納腔”;
②證據(jù)3中的“洗刷組件、支撐架、樞轉(zhuǎn)板”相當于對應公開了涉案專利的“滾刷結(jié)構(gòu)、支架本體、安裝架”;
也即是,以上區(qū)別(1)被證據(jù)3完全公開,不具備創(chuàng)造性。
是否陷入事后諸葛亮式的判斷誤區(qū)?



證據(jù)3雖然公開了洗刷組件、支撐架等結(jié)構(gòu),但其目的是實現(xiàn)對基板(即晶片)的全面清洗效果;在清洗過程中,進行移動基板,使之經(jīng)過位于其兩側(cè)的沖刷組件進行清洗,且為確保兩側(cè)的洗刷組件同步轉(zhuǎn)動而設置了滑塊256、軌道255以及連桿257等;
而涉案專利和證據(jù)1都是涉及晶片的拋光領(lǐng)域,并不是證據(jù)3中的清洗領(lǐng)域;且涉案專利的拋光滾筒結(jié)構(gòu)僅設于晶片的一側(cè),并不是設置兩側(cè),同時是滾筒結(jié)構(gòu)靠近晶片,而不是移動晶片靠近滾筒結(jié)構(gòu)(與證據(jù)3不同);
也即是,本領(lǐng)域技術(shù)人員在看到涉案專利的技術(shù)方案之前,不會輕易想到將與涉案專利所屬技術(shù)領(lǐng)域、操作原理、滾刷結(jié)構(gòu)等不同的證據(jù)3結(jié)構(gòu)應用到證據(jù)1中獲得涉案專利的技術(shù)方案;因此,本領(lǐng)域技術(shù)人員看到涉案專利的技術(shù)方案之后才能想到其技術(shù)方案,這就是陷入了事后諸葛亮式的判斷誤區(qū)。
綜上分析,證據(jù)3并未給出設置滾刷結(jié)構(gòu)、支架本體、安裝架等相關(guān)技術(shù)結(jié)合啟示,且本領(lǐng)域技術(shù)人員需要付出一定的創(chuàng)造性勞動才能想到本申請中在晶片的一側(cè)設置拋光滾筒以及對應的操作原理等技術(shù)構(gòu)思。
【啟發(fā)】



分析所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員是否有改進現(xiàn)有技術(shù)的動機,應當站位于涉案專利申請日前進行分析,而不應在了解了涉案專利的技術(shù)方案之后想到的,這就導致本領(lǐng)域技術(shù)人員事后諸葛亮式的判斷誤區(qū);

在分析結(jié)構(gòu)時,不僅僅只考慮現(xiàn)有技術(shù)中的某一個部件(技術(shù)特征)與涉案專利結(jié)構(gòu)是否一致,還要適當考慮各個部件之間的配合原理(即工作原理)是否給到啟示,也即是,不僅僅只考慮割裂的特征,還要合理性考慮組合后的結(jié)構(gòu)特征以及對應的效果、原理等是否給到技術(shù)啟示。


聲明:本文僅供參考

供稿部門:精金石\實務部

作者:許蘭蘭



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